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四种常见的真空镀膜材料

您是第 786 位读者    发布日期:2014-12-31    
1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化钛TiO2,二氧化锆ZrO2,二氧化铪HfO2,一氧化钛TiO,五氧化三钛Ti3O5,五氧化二铌Nb2O5,五氧化二钽Ta2O5,氧化钇Y2O3,氧化锌ZnO等高纯氧化物镀膜材料。
2.氟化物:氟化钕NbF3,氟化钡BaF2,氟化铈CeF3,氟化镁MgF2,氟化镧LaF3,氟化钇YF3,氟化镱YbF3,氟化铒ErF3等高纯氟化物。
3.其它化合物:硫化锌ZnS,硒化锌ZnSe,氮化钛TiN,碳化硅SiC,钛酸镧LaTiO3,钛酸钡BaTiO3,钛酸锶SrTiO3,钛酸镨PrTiO3,硫化镉CdS等真空镀膜材料。
4.金属镀膜材料:高纯铝Al,高纯铜Cu,高纯钛Ti,高纯硅Si,高纯金Au,高纯银Ag,高纯铟In,高纯镁Mg,高纯锌Zn,高纯铂Pt,高纯锗Ge,高纯镍Ni,高纯金Au,金锗合金AuGe,金镍合金AuNi,镍铬合金NiCr,钛铝合金TiAl,铜铟镓合金CuInGa,铜铟镓硒合金CuInGaSe,锌铝合金ZnAl,铝硅合金AlSi等金属镀膜材料。